Hidratáló hidrogél fátyolmaszk Centella összetevővel. Kellemes, hidratáló lépés, akár a mikrotűzés közötti napokon is.
Tiszta arcra helyezd, hagyd hatni az útmutató szerint, majd vedd le; a megmaradt szérumot dolgozd be.
Kiemelt hatóanyagok
-
Centella asiatica kivonat: hatóanyagai a triterpének (madekasszozid, azsiatikozid, azsiatinsav, madekasszinsav); a szakirodalom a bőrnyugtatás, a bőrpír és a barrier támogatása kapcsán vizsgálja.
-
Nátrium-hialuronát + hialuronsav: vízmegkötő humektánsok. A nagy molekulatömegű hialuronsav a felszínen tartja a nedvességet és filmet képez; a nátrium-hialuronát vízoldható sóként, kisebb változataiban kissé mélyebbre jut a felső rétegekben. Kettőjük együtt széles felszíni hidratációt ad.
-
Kamilla (Chamomilla recutita) kivonat: hatóanyagai közt van a bizabolol és a kamazulén; a szakirodalom a bőrnyugtatás és a bőrpír csillapítása kapcsán vizsgálja, jellemzően érzékeny bőrön.
-
Glicerin: alap humektáns, amely hidrogénkötésekkel köti a vizet a szaruréteg felső rétegeibe és mérsékli a vízvesztést.
Összetevők (INCI)
Centella Asiatica Extract, Water, Dipropylene Glycol, Glycereth-26, Glycerin, 1,2-Hexanediol, Betaine, Butylene Glycol, Paeonia Suffruticosa Root Extract, Polyglyceryl-10 Laurate, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Glyceryl Caprylate, Carbomer, Xanthan Gum, Arginine, Ethylhexylglycerin, Sodium Hyaluronate, Dextrin, Theobroma Cacao (Cocoa) Extract, Propanediol, Coptis Japonica Root Extract, Mentha Arvensis Leaf Oil, Sodium Hyaluronate Crosspolymer, Hydrolyzed Glycosaminoglycans, Benzyl Glycol, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Hyaluronic Acid, Raspberry Ketone, Disodium EDTA
A gyártó előzetes értesítés nélkül módosíthatja a termék összetételét, csomagolásának dizájnját és jellemzőit. Az aktuális összetevőlista mindig a termék csomagolásán található. Igyekszünk pontos információkat és aktuális képeket biztosítani, azonban a termék kis mértékben eltérhet a weboldalon látható képtől.
